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TOOLのレイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」が独Vistec社の測長装置と連携～レシピ作成工数を大幅に削減

2007年4月10日、レイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」を手掛けるTOOL社と半導体検査・計測装置を手掛ける独Vistec社は、Vistecのフォトマスク対応SEM式CD測長装置「LWM9000 SEM」とTOOLの「LAVIS」のインテグレーションを発表した。

プレスリリース：http://www.tool.co.jp/NewsItem/Lavis/News20070410Jp/view

今回発表された両社製品のインテグレーションは、CD測長装置を用いてフォトマスク上の微細パターンを測長する際に必要となる「測長指示ファイル＝レシピ」の作成工数の削減を目的としたもので、両社は独自の方式によって、測長対象となる設計データを「LAVIS」で表示しながら、簡単なマウス操作で視覚的にレシピを作成することを可能にした。

作成されたレシピは、直接「LWM9000 SEM」で読み込むことができるため、ユーザはレシピの書式を気にせず、高品質な測長指示ファイルを短期間で作成でき、マスク製造工程をより効率化することが可能。実際に両社共通の顧客は、このインテグレーションによって、レシピ作成工数を手作業で作成する場合と比べ、1/10以下に削減することができたという。

尚、今回発表された両社のインテグレーションの詳細については、来週パシフィコ横浜で開催される「Photomask Japan」にてTOOL社ブースで展示される予定となっている。

※「LAVIS」に関する詳細は、TOOL株式会社にお問い合わせ下さい。http://www.tool.co.jp

※「LWM9000 SEM」に関する詳細は、Vistec Semiconductor Systems社にお問い合わせ下さい。
http://www.vistec-semi.com

※Photomask Japan
http://www.photomask-japan.org

＝EDAエクスプレス＝

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